行星式球磨儀

描述：行星式球磨儀PM300是一款功能強(qiáng)大、符合人體工程學(xué)的臺(tái)式設(shè)備，配有兩個(gè)研磨工位，可支持高達(dá) 500毫升容積的研磨罐，允許每批次處理多達(dá)220毫升x2的樣品材料。800rpm的高轉(zhuǎn)速，產(chǎn)生的高離心力導(dǎo)致粉碎效率極大提升，從而縮短了工作時(shí)間。

產(chǎn)品型號(hào)：PM 300
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-23
訪問(wèn)量：194

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產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標(biāo)題：行星式球磨儀

產(chǎn)品概述

行星式球磨儀PM 300是一款功能強(qiáng)大、符合人體工程學(xué)的臺(tái)式設(shè)備，配有兩個(gè)研磨工位，可支持高達(dá) 500毫升容積的研磨罐，允許每批次處理多達(dá)220毫升x2的樣品材料。800rpm的高轉(zhuǎn)速，產(chǎn)生的高離心力導(dǎo)致粉碎效率極大提升，從而縮短了工作時(shí)間。

行星式球磨儀

安全：緊固到位會(huì)自動(dòng)鳴叫提醒

操作RETSCH行星式球磨機(jī)很安全，配有安全擋片保護(hù)裝置，確保只有研磨罐緊固后才能啟動(dòng)。

太陽(yáng)輪鎖定設(shè)計(jì)可確保研磨罐定位準(zhǔn)確、緊固安全。

經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的機(jī)械系統(tǒng)比電子解決方案更不容易發(fā)生故障——用戶可以隨時(shí)輕松取放研磨罐。

而當(dāng)電子系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)，就可能無(wú)法解鎖研磨罐。

行星式球磨儀PM 300的另一個(gè)特別的安全特征是當(dāng)緊固裝置已達(dá)到所需的25Nm扭矩力固定時(shí)，設(shè)備會(huì)發(fā)出鳴笛聲并在顯示屏上通知。

RETSCH提供了方便的緊固輔助扳手，當(dāng)機(jī)器設(shè)定在600和800轉(zhuǎn)/分之間的較高速度范圍內(nèi)運(yùn)行時(shí)，這尤其需求。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用	粉碎、混合、均質(zhì)化、膠體研磨、機(jī)械合金化、機(jī)械化學(xué)、晶體篩選
應(yīng)用領(lǐng)域	農(nóng)業(yè), 化學(xué), 醫(yī)藥, 地質(zhì)/冶金, 工程/電子, 建筑材料, 環(huán)境/循環(huán), 玻璃/陶瓷, 生物
樣品特征	軟性, 硬性, 脆性, 纖維質(zhì)—干或濕
粉碎原理：	撞擊力，摩擦力
最大進(jìn)樣尺寸	< 10 mm
最終出料粒度 *	用于膠體研磨，出樣小于０.１微米
批次加料量*	max. 2 x 220 ml
研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù))	2
轉(zhuǎn)速比設(shè)定	1 : -2
太陽(yáng)輪轉(zhuǎn)速	50 - 800 min-1
有效太陽(yáng)輪直徑	180 mm
重力	64 g
研磨罐種類	可選區(qū)域蓋, 安全閉合裝置
研磨套件材料：	硬質(zhì)不銹鋼, 碳化鎢, 瑪瑙, 燒結(jié)剛玉, 氧化鋯
研磨罐尺寸	12 ml / 25 ml / 50 ml / 80 ml / 125 ml / 250 ml / 500 ml
可堆疊研磨罐	12 ml / 25 ml / 50 ml / 80 ml
一次性玻璃瓶適配器	24 x 1.5 ml / 7 x 20 ml
粉碎時(shí)間設(shè)定	數(shù)字式，00:00:01至99:59:59
間歇驅(qū)動(dòng)	可以，反向轉(zhuǎn)動(dòng)
轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)間	數(shù)字設(shè)定 00:00:01 至 99:59:59
暫停時(shí)間	數(shù)字設(shè)定 00:00:01 至 99:59:59
可存儲(chǔ)運(yùn)行模式	12
可儲(chǔ)存的循環(huán)方案：	4
能力輸入測(cè)定	是
串行接口	USB, RASPI
驅(qū)動(dòng)	帶變頻器的三相交流電動(dòng)機(jī)
驅(qū)動(dòng)功率	2,5 kW
電源數(shù)據(jù)：	200-240 V, 50/60 Hz
電源接頭：	單相
防護(hù)類型	IP 20
接受功率	~ 3335 VA
機(jī)體尺寸（寬x高x縱深）	745 x 525 x 580 mm
凈重	~ 118 kg
標(biāo)準(zhǔn)	CE
Patent/Utility Patent	是

受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響

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